因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。
伯東公司 KRI 考夫曼霍爾離子源光學(xué)蒸鍍鍍膜機(jī)應(yīng)用
常見(jiàn)蒸鍍機(jī)臺(tái)與對(duì)應(yīng) KRI 霍爾離子源型號(hào)：
蒸鍍機(jī)臺(tái)尺寸 | KRI 離子源 |
~1100mm | eH1010 |
1100~1400mm | eH1010, eH1020 |
1400~1900mm | eH1020, eH3000 |
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KRI 考夫曼霍爾離子源 controller 自動(dòng)化控制及聯(lián)機(jī)自動(dòng)化設(shè)計(jì)，提供使用者在操作上更是便利。
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KRI 考夫曼霍爾離子源 Gun body 模塊化之設(shè)計(jì)、提供使用者在于基本保養(yǎng)中能夠降低成本及便利性。
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伯東公司客戶(hù) 1400 mm 蒸鍍鍍膜機(jī)安裝 KRI考夫曼霍爾離子源 EH1020 F，應(yīng)用于塑料光學(xué)鍍膜。
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KRI 考夫曼霍爾離子源 EH1020 主要參數(shù):
Filament Controller | Discharge controller | Gas controller |
17.2A/ 22V | 150V/ 4.85A | Ar/ 32sccm |
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利用 KRI 考夫曼霍爾離子源輔助鍍膜及無(wú)離子源輔助鍍膜對(duì)鍍膜質(zhì)量之比較：
KRI EH1020 輔助鍍膜 | 無(wú) Ion Source 輔助鍍膜 | |
鹽水煮沸脫膜測(cè)試 | 優(yōu) | 劣 |
破壞性百格脫膜測(cè)試 | 優(yōu) | 劣 |
光學(xué)折射設(shè)率 | 高 | 低 |
膜層致密性 | 優(yōu) | 劣 |
膜層光學(xué)吸收率 | 無(wú) | 有 |
制程腔體加熱溫度 | 低 | 高 |
生產(chǎn)成本 | 低 | 高 |
KRI 考夫曼霍爾離子源系列主要型號(hào)包含：
離子源 eH200 | 離子源 eH400 | 離子源 eH1010 | 離子源 eH1020 | 離子源 eH3000 | |
Cathode | Filament or Hollow cathode | Filament or Hollow cathode | Filament or Hollow cathode | Filament or Hollow cathode | Hollow cathode |
Water Cooled Anode | no | no | no | yes | no |
Discharge Currentmax | 2 A | 3.5 (7) A | 10 (7) A | 10 (20) A | 20 (10) A |
Discharge Voltagemax | 300 V | 300 (150) V | 300 (150 ) V | 300 (150) V | 250 (300) V |
Discharge Voltagemin | 40* V | 40* V | 40* V | 40* V | 40* V |
Divergence (hmhw) | 45° | 45° | 45° | 45° | 45° |
Height (nominal) | 2.0” | 3.0” | 4.0” | 4.0” | 6.0” |
Diameter (nominal) | 2.5” | 3.7” | 5.7” | 5.7” | 9.7” |
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