半導(dǎo)體制造中需要一些有機(jī)物和無(wú)機(jī)物參與完成，另外，由于工藝總是在凈化室中由人的參與 進(jìn)行，所以半導(dǎo)體圓片不可避免的被各種雜質(zhì)污染。根據(jù)污染物的來(lái)源、性質(zhì)等，大致可分為顆粒、有機(jī)物、金屬離子和氧化物四大類(lèi)。

1.1 顆粒

顆粒主要是一些聚合物、光刻膠和蝕刻雜質(zhì)等。這類(lèi)污染物通常主要依靠范德瓦爾斯吸引力 吸附在圓片表面，影響器件光刻工序的幾何圖形的形成及電學(xué)參數(shù)。這類(lèi)污染物的去除方法主要以物理或化學(xué)的方法對(duì)顆粒進(jìn)行底切，逐漸減小其與圓片表面的接觸面積，最終將其去除。

1.2  有機(jī)物

有機(jī)物雜質(zhì)的來(lái)源比較廣泛，如人的皮膚油脂、細(xì)菌、機(jī)械油、真空脂、光刻膠、清洗溶劑等。這類(lèi)污染物通常在圓片表面形成有機(jī)物薄膜阻止清洗液到達(dá)圓片表面，導(dǎo)致圓片表面清洗不徹底，使得金屬雜質(zhì)等污染物在清洗之后仍完整的保留在圓片表面。這類(lèi)污染物的去除常常在清洗工序的第一步進(jìn)行，主要使用硫酸和雙氧水等方法進(jìn)行。

PMT-2液體顆粒計(jì)數(shù)儀采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線(xiàn)或離線(xiàn)顆粒監(jiān)測(cè)和分析，目前是英國(guó)普洛帝分析測(cè)試集團(tuán)向水質(zhì)領(lǐng)域及微納米檢測(cè)領(lǐng)域的重要產(chǎn)品。