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公司基本資料信息
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上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC75, 緊湊柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.
離子束流: >250 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲.
加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
考夫曼離子源 KDC 75 包含2個(gè)陰極燈絲, 其中一個(gè)作為備用.
離子束直徑 14 cm ,可安裝在 8“CF法蘭.
離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.
技術(shù)參數(shù)：
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離子源型號(hào) |
離子源 KDC 75 |
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Discharge |
DC 熱離子 |
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離子束流 |
>250 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
7.5 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-15 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
20.1 cm |
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直徑 |
14 cm |
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中和器 |
燈絲 |
* 可選: 一個(gè)陰極燈絲; 可調(diào)角度的支架
應(yīng)用領(lǐng)域：
1.濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
2.輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
3.表面改性, 激活 SM
4.離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
5.離子蝕刻 IBE
應(yīng)用案例:
1. 伯東 KRI 離子源成功應(yīng)用于離子濺射鍍膜 (IBSD)
2. 伯東 KRI Gridded 考夫曼離子源用于離子束拋光工藝
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