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KRI 考夫曼離子源 KDC100

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品牌: KRI
離子束流: >400 mA
柵極直徑: 12 cm Φ
流量: 2-20 sccm
單價: 1.00元/臺
起訂: 1 臺
供貨總量: 1 臺
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 60 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
有效期至: 長期有效
最后更新: 2021-01-21 13:02
瀏覽次數(shù): 190
詢價
 
公司基本資料信息
詳細說明

上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 100, 屬于中型規(guī)格柵網(wǎng)離子源. 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.

離子束流: >400 mA; 離子動能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 燈絲.

采用雙陰極燈絲和自對準柵網(wǎng).加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強設計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.

離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.

通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.


技術參數(shù):

 離子源型號

 離子源 KDC 100 

Discharge

DC 熱離子

離子束流

>400 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

12 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

流量

2-20 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

23.5 cm

直徑

19.4 cm

中和器

燈絲

可選可調(diào)角度的支架


應用領域:

1.濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

2.輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD

3.表面改性激活 SM

4.離子濺射沉積和多層結(jié)構 IBSD

5.離子蝕刻 IBE

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