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公司基本資料信息
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KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混氣管式PECVD系統(tǒng),由KJ-T1200單溫區(qū)管式爐、真空系統(tǒng)、質(zhì)子流量計(jì)、射頻電源系統(tǒng)系統(tǒng)組成。
混氣管式PECVD系統(tǒng)是為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng),環(huán)境溫度在100-300℃,但反應(yīng)氣體在輝光放電等離子體中能受激分解、離解和離化,從而大大提高了反應(yīng)物的活性,這些具有反應(yīng)活性的中性物質(zhì)很容易被吸附到較次溫度的基本表面上,發(fā)生非平衡的化學(xué)反應(yīng)沉積生成薄膜,因此這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD)。
設(shè)備可在片狀或類似形狀樣品表面沉積SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SiC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積p型、n型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣性。廣泛應(yīng)用于刀具、高精模具、硬質(zhì)涂層、高端裝飾等領(lǐng)域。
管式爐系統(tǒng) | |
爐管尺寸 |
直徑60mm |
加熱區(qū)長度 |
440mm(更多規(guī)格可按照客戶要求定制) |
正常工作溫度 |
1100℃ |
最高工作溫度 |
1200℃ |
加熱元件 | 摻鉬合金加熱絲 |
爐膛材質(zhì) | 采用日本進(jìn)口爐膛材料,不掉粉、材料保溫性能好、反射率高、溫場均衡,抗熱漲冷縮能力強(qiáng) |
控溫方式 |
智能化30段可編程控制(用戶可選配液晶觸摸屏顯示) |
真空系統(tǒng) | |
高真空分子泵組,高真空復(fù)合真空計(jì)
前級泵2升每秒,分子泵600升每秒 采用KF25系列波紋管和真空擋板閥連接 |
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質(zhì)子流量計(jì) |
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高精度質(zhì)量流量計(jì)可準(zhǔn)確的控制氣體流量 氣體流量范圍為0-500SCCm 誤差為0.02% 出氣真空壓力表,內(nèi)置氣體混氣系統(tǒng), 不銹鋼針閥計(jì)管道,標(biāo)準(zhǔn)雙卡套接頭 |
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射頻電源系統(tǒng) |
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輸出功率 |
50-500W最大可調(diào)±1% |
RF頻率 |
13.56MHz,穩(wěn)定性±0.005% |
噪聲 |
≤55DB |
冷卻 |
風(fēng)冷 |
輸入功率 |
1KW AC 220V |
提供相關(guān)配件 |
氣煉石英爐管、真空法蘭、高溫手套、坩堝鉤、熱電偶、防燙罩、剛玉坩堝、爐塞 |
電氣認(rèn)證 | CE認(rèn)證 |
售后服務(wù) | 12個(gè)月質(zhì)保、終身保修 |
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