Emitech最近投放市場(chǎng)的新型臺(tái)式濺射鍍膜儀SC3000，可適合電鏡制樣和12英寸晶圓快速鍍膜等用途。這個(gè)新型濺鍍系統(tǒng)重要特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)在于它緊湊的腔室尺寸、最少的抽真空時(shí)間和最大的制樣產(chǎn)量。 這個(gè)采用全自動(dòng)控制的新型系統(tǒng)能夠在一次真空條件下順序?yàn)R鍍多達(dá)三層不同的金屬膜，靶材可選菜單有15種預(yù)設(shè)工作程序的材料，還能自動(dòng)探測(cè)放入的晶圓尺寸如100，150，200或300mm。具有渦輪泵的高真空鍍膜儀使用標(biāo)準(zhǔn)濺射靶材，在系統(tǒng)中允許使用多種靶材，如易氧化金屬和貴金屬。 若需獲得更多關(guān)于新型SC3000的資料或調(diào)研考查這個(gè)系統(tǒng)，請(qǐng)?jiān)L問(wèn)中國(guó)區(qū)代理網(wǎng)站：www.tansi.com.cn SC3000濺射儀系統(tǒng)可對(duì)12英寸（300mm）晶圓進(jìn)行噴鍍。它具有多靶濺射，在不破壞真空的情況下，可進(jìn)行三層順序涂層。 此儀器為高真空、高分辨率鍍膜系統(tǒng)，它可進(jìn)行精細(xì)及精確、可重復(fù)的鍍膜。 SC3000中配有三個(gè)磁電管靶，可鍍超大直徑的樣品，加之可旋轉(zhuǎn)的樣品臺(tái)，保證了均勻沉積。這種方式不需要特大的靶面，而用標(biāo)準(zhǔn)靶即可。 多靶系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵，前級(jí)為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵。集成的儀器面板和即插即用的電子學(xué)最大的“up-time”，以及用戶(hù)友好設(shè)計(jì)，保證了多學(xué)科領(lǐng)域滿(mǎn)意的應(yīng)用。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁針閥。 在全自動(dòng)鍍膜過(guò)程中，獨(dú)立的真空泵自始自終由儀器自動(dòng)控制?？捎媒鹱鳛闉R射靶材，也可選用需要預(yù)清潔或去除氧化層的靶，如鉻靶。 閘門(mén)已作為標(biāo)準(zhǔn)配置，該裝置允許在維持真空的同時(shí)可進(jìn)行濺射清潔和濺射循環(huán)。 儀器特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn) ● 模塊化控制電子學(xué)單元 ● 清潔的真空設(shè)計(jì) ● 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) ● 多靶濺射（配有濺射清潔光閘） ● LCD 狀態(tài)/數(shù)據(jù)登錄顯示 ● 用戶(hù)菜單輸入可存貯10個(gè)方案 ● LCD顯示（真空、時(shí)間及電流） ● 靈敏的真空測(cè)量頭（操作真空全范圍顯示） ● 具有ISO 100 Flange渦輪分子泵抽氣系統(tǒng)，（可選更大的泵）240 L/sec ● 整個(gè)全自動(dòng)程序包括凈化非常快―15分鐘 ● Peltier冷卻靶面―無(wú)需循環(huán)水 ● 不用打開(kāi)真空即可進(jìn)行三層順序鍍膜 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H （整個(gè)高度650mm） 重量：55公斤 工作腔室：不銹鋼 300mm Dia x 200mm H（具有觀察窗口） 靶：三靶54 mm 直徑 x 0.3mm 厚鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材（各種靶材可選，如：金、鉑、金/鈀合金） 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)：適合6英寸及12英寸晶圓可調(diào)， 與靶的距離為60mm 真空范圍：ATM-1x10-5 mbar 操作真空：1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar 沉積電流：0-750mA 沉積速度：0-10nm/分 濺射定時(shí)：0-4 分鐘 電源：230 伏 50Hz (包括泵最大電流為10安培) 115 伏 60Hz (包括泵最大電流為20安培) Services：Argon - Nominal 10 psi Nitrogen：Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 前級(jí)旋轉(zhuǎn)泵：No5真空泵, 85L/Min complete with Vacuum Hose and Oil Mist Filter. 8m3/Hr.