獨(dú)立于電鏡真空系統(tǒng)之外、自帶渦輪分子泵高真空單元的制樣系統(tǒng)，具有低溫冷凍、鍍膜制樣、樣品傳輸以及隨后的直接觀察之先進(jìn)功能。 眾所周知，含水樣品（如生物樣品、食品、石油類樣品）一般是在脫水干燥處理后再鍍導(dǎo)電膜才能放入電鏡觀察。由于脫水干燥，觀察到的圖像有干癟變形、結(jié)構(gòu)失真等缺陷。那么，怎樣才能實(shí)現(xiàn)對(duì)含水狀態(tài)下（不用脫水干燥）的樣品形貌進(jìn)行直接觀察呢？本系統(tǒng)針對(duì)該應(yīng)用而設(shè)計(jì)，它匹配于包括場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡在內(nèi)的當(dāng)前所有種類的掃描電鏡，其組件分別可將含水樣品在電鏡外部進(jìn)行超低溫冷凍、鍍膜制樣（噴金噴碳）等處理，然后通過(guò)特別設(shè)計(jì)的裝置將樣品傳輸?shù)轿挥陔婄R內(nèi)部腔室中的冷臺(tái)（低溫樣品臺(tái)）進(jìn)行隨后的觀察，所有操作過(guò)程不用卸除電鏡真空去打開(kāi)電鏡樣品腔室。 本系統(tǒng)低溫電鏡技術(shù)是采用超低溫冷凍(物理)方法制備生物樣品；與常規(guī)電鏡技術(shù)比較，可使樣品既符合電鏡分析的要求，又最大程度地維持樣品在其生活時(shí)的生理狀態(tài)（含水狀態(tài)），所顯示的超微結(jié)構(gòu)更客觀地反映了生物樣品的自然生理狀態(tài)。目前該技術(shù)已廣泛地應(yīng)用于細(xì)胞和分子水平的科學(xué)研究中，為準(zhǔn)確分析和解決生命科學(xué)的一些問(wèn)題提供了可靠的依據(jù)。只要配備了該系統(tǒng)，您的普通電鏡立即改造成了一臺(tái)能直接觀察含水樣品（無(wú)需脫水干燥）的低溫掃描電鏡！ 系統(tǒng)項(xiàng)目： 冷凍腔室，制樣腔室，渦輪分子泵單元 控制單元: 濺射鍍膜模塊，鍍碳模塊，真空序列模塊，渦輪泵控制單元，溫度監(jiān)控單元，膜厚監(jiān)控器 傳輸單元: 帶有整體閘閥的傳輸裝置，樣品托 掃描電鏡組件:液氮，（標(biāo)準(zhǔn)）編織物傳導(dǎo)的冷臺(tái)，（可選）氣體對(duì)流的冷臺(tái)，閘閥通路 特點(diǎn)： ●遙控用戶界面 ●遙控電子和系統(tǒng)操作 ●獨(dú)立準(zhǔn)備腔室 ●冷卻刀探測(cè)裝置 ●渦輪分子泵裝置 ●低電壓冷濺射頭，可重復(fù)性高 ●碳絲閃蒸頭 ●帶閘閥的活退出傳輸單元 ●用于表面升華的輻射加熱頭 優(yōu)點(diǎn)： ●電子遙控，沖突干擾低 ●獨(dú)立制樣，振動(dòng)很小 ●高分辨率濺射鍍膜（可選） ●冷卻刀和探測(cè)裝置產(chǎn)生冷凍破碎 ●適合任意類型掃描電鏡 ●鍍碳和鍍金能夠一起實(shí)現(xiàn) ●容易在室溫下進(jìn)行顯微鏡操作 ●采用渦輪分子泵超清潔真空系統(tǒng) ●樣品能在顯微鏡中遙控升華 系統(tǒng)性能描述： 冷凍腔室 整體高真空腔室產(chǎn)生過(guò)冷液氮使樣品急劇冷凍。抽真空時(shí)間為30秒。過(guò)冷液氮（雪泥）溫度在-210oC。它裝有與傳輸裝置配套的定位圈以及過(guò)壓安全減壓閥。 制樣腔室 全高真空腔室，軸向安裝了渦輪泵抽氣單元，并且?guī)в歇?dú)立動(dòng)作、自鎖、通路閥門、與傳遞裝置配套的空間隔離抽氣系統(tǒng)、合適位置的制樣裝置。渦輪分子抽氣單元的‘軸’安裝在制樣腔室上，采用ISO63 全‘喉’型法蘭，確保最大的抽真空效率。泵速為60L/秒。真空度優(yōu)于1 x 10-5mbar。萬(wàn)一發(fā)生真空失靈事件時(shí)能關(guān)閉系統(tǒng)并安全泄壓至大氣，以免造成損壞。 制樣腔室的冷臺(tái)裝有全冷防污染護(hù)罩。冷臺(tái)具有4種工作狀態(tài)，以及銅到銅的溫度傳導(dǎo)方式，冷臺(tái)的溫度維持在-170oC以下。 制樣腔室的液氮杜瓦瓶：真空雙壁結(jié)構(gòu)，1升的內(nèi)部容量，在大氣壓力下維持冷臺(tái)溫度保持不變狀態(tài)可達(dá)60分鐘，而不用‘開(kāi)蓋加注’或‘自動(dòng)灌注’。（大約每天10升） 與制樣腔室冷臺(tái)相結(jié)合的升華臺(tái)，帶有溫控和定時(shí)器。 帶有冷凍‘刀片’的微調(diào)刀，高度可調(diào)，具有推/拉作用以及回程清潔樣品的功能。 宏操縱器，帶有冷卻‘點(diǎn)’，中心位置可調(diào)。 標(biāo)準(zhǔn)濺射頭：低能量輸入；高分辯率。金靶（厚度0.1mm x 直徑20mm。）作為標(biāo)準(zhǔn)配置。使用金靶，在20mA，100V直流電（平均值）濺射兩分鐘情況下，膜厚可達(dá)20nm，顆粒尺寸2nm。 樣品升溫不超過(guò)3oC/分鐘。濺射針閥的真空控制范圍在5x10-1到2x10-1mbar，由電磁閥支持。濺射頭可選鍍鉻濺射頭。 采用碳繩/碳線閃蒸技術(shù)的鍍碳頭，帶有高真空渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)，能給出精細(xì)涂層，并允許好幾次碳繩蒸發(fā)而無(wú)需替換碳源。 控制單元 控制單元帶有插入式電子模塊和低壓（24V直流）控制電路。 帶袖珍小鍵盤的液晶顯示器?？刂破鳌昂谙蛔印碧幱谶h(yuǎn)離鍵盤的位置。 濺射鍍膜模塊：可變沉積速度0-50nm/分鐘（金），并且相應(yīng)地控制電流0-50mA，濺射電壓范圍80-120伏直流均值，0-4分鐘可重設(shè)置的沉積定時(shí)器。 蒸發(fā)鍍碳模塊：低電壓交流20V電源用于碳蒸發(fā)，典型的是‘閃’一秒；0-50A的電表和0-20A可變的除氣電流控制；使用低電壓交流20V電源和0-20A可變電流控制的輻射加熱器。真空順序模塊帶有電磁閥和自動(dòng)的渦輪泵前級(jí)壓力互鎖裝置。制樣腔室在0-1x10-5mbar內(nèi)采用相應(yīng)儀表連續(xù)真空監(jiān)測(cè)。對(duì)系統(tǒng)的所有其它位置，自動(dòng)選擇相應(yīng)的0-1x10-5mbar真空儀表監(jiān)測(cè)。 渦輪控制單元：真空時(shí)序互鎖，帶有常規(guī)（高真空）指示以及故障狀態(tài)讀出。 溫度監(jiān)測(cè)單元：用于制樣腔室冷臺(tái)和掃描電鏡冷臺(tái)。設(shè)置控制點(diǎn)的范圍在+50oC 到 -200oC，帶有P.I.D.（比例積分微分）控制參數(shù)，并有數(shù)字顯示，可控制+50oC 到 -200oC輸入的冷臺(tái)加熱器，以及0-20分鐘可調(diào)的定時(shí)，可控的全范圍為-200oC 到 +400oC，精度優(yōu)于+/- 1oC。 傳輸單元 傳輸腔室：主動(dòng)抽真空系統(tǒng)，無(wú)污染應(yīng)用。（在傳輸過(guò)程中真空優(yōu)于1x10-2mBar。） 傳遞棒：具有絕熱頂端，全獨(dú)立運(yùn)動(dòng)，自鎖閥門，以及空間隔離抽氣裝置。 樣品托：拋光銅，具有良好的熱傳導(dǎo)特性和‘維持’性能。當(dāng)不裝在冷臺(tái)上時(shí)，在傳輸活動(dòng)過(guò)程中升溫速度低于10度/分鐘。容易應(yīng)用于做縱向的，橫向的，和碎裂物固定。 掃描電鏡組件 液氮杜瓦瓶：界面匹配掃描電鏡端口，具有促使冷臺(tái)冷卻和防污染護(hù)罩的作用。雙壁間抽真空，1升的內(nèi)部容量，在大氣壓力下維持冷臺(tái)溫度保持不變狀態(tài)可達(dá)60分鐘，而不用‘開(kāi)蓋加注’或‘自動(dòng)灌注’。（大約每天10升） 標(biāo)配冷臺(tái)：采用編織物傳導(dǎo)冷卻方式。這種設(shè)計(jì)適合現(xiàn)有的掃描電鏡樣品臺(tái)，帶有絕熱裝置，能維持樣品臺(tái)進(jìn)行所有合理的運(yùn)動(dòng)，液氮杜瓦瓶支持的銅編織傳導(dǎo)冷卻，可控的升華和定時(shí)。（典型的從室溫20度冷卻至-160度，大約30分鐘。） 可選冷臺(tái)：采用氣體對(duì)流傳導(dǎo)冷卻。這種設(shè)計(jì)適合現(xiàn)有的掃描電鏡樣品臺(tái)，帶有絕熱裝置，能維持樣品臺(tái)進(jìn)行所有合理的運(yùn)動(dòng)，液氮杜瓦瓶支持的銅編織傳導(dǎo)冷卻，可控的升華和定時(shí)。（典型的從室溫20度冷卻至-160度，大約20分鐘。） 掃描電鏡獨(dú)立工作，自鎖，通路閥門界面匹配掃描電鏡端口，空間隔離抽真空系統(tǒng)與傳遞裝置相配。 系統(tǒng)主要閥門 三個(gè)手動(dòng)操作的通路閥門獨(dú)立工作，自鎖，以防止誤操作。 技術(shù)規(guī)格： 儀器尺寸 - 450mm W x 350mm D x 175mm H 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)DIN 41494，全空氣流動(dòng)，E.M.C. 標(biāo)準(zhǔn)（電磁兼容性）。 主機(jī)配有： 工作腔室 - 直徑130mm x 長(zhǎng)度250mm，帶有真空門閥門。 減水腔室