K675X三靶大樣品離子濺射鍍膜儀 K675X濺射鍍膜儀可用于8英寸（200mm）晶圓鍍膜。主機系統(tǒng)具有雙齒轉(zhuǎn)動樣品臺，可進行漸進的橢圓形轉(zhuǎn)動，這樣使得濺射沉積更均勻。 K675X濺射鍍膜系統(tǒng)裝有磁電管靶可增加濺射效率，它使用低電壓，可得到薄而精細的涂層。 在K675X中放置了三個靶面，可鍍非常大直徑的樣品，加上旋轉(zhuǎn)樣品臺，保證了均勻沉積。這種方式不需要特殊的靶面，而用標準標即可。 多靶系統(tǒng)在半導體晶圓工業(yè)尤為適用。它使用渦輪分子泵，前級為旋轉(zhuǎn)機械泵。集成的儀器面板及即插即用的電子學最大的“up-time”，以及用戶友好設計，保證了多學科領域的應用。 濺射參數(shù)可預設，包括氣體放氣電磁閥。獨立的真空泵系統(tǒng)由儀器自動控制。它可用金作為濺射靶材，在需要預清洗或去除氧化層時，也可選用其它靶材，如鉻靶。 閘門作為標準配置，這樣在維持真空時即可進行濺射清潔和濺射循環(huán)。 特點： ● 配置三個靶面 ● 渦輪分子泵抽氣系統(tǒng) ● 全自動控制 ● Peltier冷卻濺射頭 ● 精細涂層（0.5nm Cr粒子） ● 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺作為標準配置 ● 薄膜沉積（典型為5nm） ● 直徑為300mm腔室 ● 可選雙濺射頭 優(yōu)點： ● 可對大樣品進行鍍膜，如：8英寸晶圓 ● 可濺射易氧化金屬的精細顆粒，如：鉻或銥 ● 易操作 ● 無需水冷卻 ● 超高分辨率，可復制涂層 ● 適應各種樣品 ● 重復膜厚沉積 ● 樣品容易裝載和卸載，包括8英寸晶圓 ● 不需要打開真空即可進行兩種金屬順序涂層 技術規(guī)格： 儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H (總高 630mm) 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 300mm Dia. x 20mm H 安全鐘罩：聚碳酸酯 重量：42公斤 靶：54 mm 直徑 x 0.3mm 厚x 3(鉻作為標配靶材) 旋轉(zhuǎn)樣品臺：可調(diào)的6 至 8 英寸晶圓尺寸,到靶距離60mm 真空范圍：ATM-1x10-5 mbar 沉積電流范圍：0-450mA 沉積速率：0-15nm/分 濺射定時： 0-4 分鐘 電源：230 伏 50Hz(包括泵最大電流為8安培) 115 伏 60Hz(包括泵最大電流為16安培) Services Argon - Nominal 10 psi； Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr