EMITECH K575X 高分辨率濺射儀 ――Peltier制冷型 K575X使用“渦輪”泵，前級(jí)為旋片式機(jī)械泵，整個(gè)抽真空過程為自動(dòng)控制。 真空度可調(diào)整，以適應(yīng)鉻或其它易氧化金屬，以及金靶等不同材料要求，定時(shí)器可設(shè)置成不同的濺射時(shí)間。 本系統(tǒng)裝配了磁控管靶，靶面直徑為54 mm，可快速更換靶材。 濺射頭用Peltier制冷，可得到高性能、精細(xì)顆粒的涂層（無需水冷卻）。 濺射時(shí)參數(shù)可預(yù)設(shè)，包括氣體放氣電磁閥。 K575d（雙頭）其它與K575X相同，只是具有兩個(gè)濺射頭。在進(jìn)行特殊涂層的應(yīng)用時(shí)，不需要打開真空即可進(jìn)行兩層沉積濺鍍。 注：K575d技術(shù)規(guī)格與K575X相同，但它具有兩頭。K575X具有peltier制冷，對(duì)于比較厚的沉積，通常用K575d（雙頭）單元，它需要用水冷卻。 儀器特點(diǎn) ● 全自動(dòng)控制 ● Peltier冷卻濺射頭 ● 精細(xì)鍍層（0.5nm Cr粒子） ● 可傾斜的特殊旋轉(zhuǎn)臺(tái)作為標(biāo)準(zhǔn)配置 ● 薄膜沉積（典型為5nm） ● 直徑為165mm腔室 ● 可選雙濺射頭 ● 可接膜厚測控儀 儀器優(yōu)點(diǎn) ● 可濺射易氧化金屬精細(xì)顆粒，如：鉻或銥 ● 易操作 ● 無需水冷卻 ● 超高分辨率，可復(fù)制涂層 ● 適應(yīng)各種樣品 ● 重復(fù)膜厚沉積 ● 樣品容易裝載和卸載 ● 不需要打開真空即可進(jìn)行順序涂層 ● 沉積厚度可預(yù)設(shè) 技術(shù)規(guī)格 儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃 165mm Dia x 125mm H 安全鐘罩：聚碳酸酯 基座： 110 mm直徑x 115mm高 重量：42公斤 靶：54 mm 直徑 x 0.2mm 厚(鉻作為標(biāo)準(zhǔn)靶材) 樣品臺(tái)：60mm直徑，具有傾斜功能的旋轉(zhuǎn)臺(tái) 真空范圍：ATM-1x10-5 mbar 操作真空：1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar 濺射電流：0-150mA 沉積速率：0-20nm/分 濺射定時(shí)：0-4 分鐘 渦輪分子泵：60 litres/Second (極限真空 1x10-8 mbar) Services - Argon - Nominal 10 psi； Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr 電源：230 伏 50Hz(包括泵最大電流為6安培) 115 伏 60Hz(包括泵最大電流為12安培)