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公司基本資料信息
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半導體晶片,芯片清洗用超純水設備,電子工業(yè)超純水設備,電子芯片清洗用超純水設備,電子半導體晶片用超純水設備,電子行業(yè)超純水設備,半導體超純水設備, 純水設備反滲透設備,反滲透純凈水設備、反滲透水處理設備、純水設備,高純水設備、超純水設備、純水工程、純凈水設備、上海純水設備、水處理設備、反滲透純水設備、高純水制取設備,電滲析設備,
工藝流程:
1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對
2、預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節(jié))-中間水箱-第二級反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象
3、預處理-二級反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象
4、預處理-二級反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(最新工藝)
應用領域:
•半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;
•超純材料和超純化學試劑;
•實驗室和中試車間
•汽車、家電表面拋光處理;
•其他高科技精微產品。
水質標準:
(符合美國ASTM標準,電子部超純水水質標準(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)
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