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首頁 > 供應(yīng)產(chǎn)品 > 溶劑純化系統(tǒng)
溶劑純化系統(tǒng)
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產(chǎn)品: 瀏覽次數(shù):550溶劑純化系統(tǒng) 
品牌: Innovative Technology
型號: Pure Solv-MD
單價: 面議
最小起訂量:
供貨總量:
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
有效期至: 長期有效
最后更新: 2011-05-31 14:07
  詢價
詳細(xì)信息

 產(chǎn)品介紹

1、溶劑凈化系統(tǒng)原理介紹
利用惰性氣體將儲液器溶中的溶劑壓入凈化柱中,溶劑中的O2等雜質(zhì)與除氧器中的低價氧化物作用,生成高價金屬氧化物,以實現(xiàn)深度脫氧:
2xM+yO2→2MxOy(室溫)
脫氧后的氣體進(jìn)人吸附器中,H2O等強(qiáng)吸附質(zhì)被吸附劑吸附后,即得到高純?nèi)軇芍苯尤∮谩?/span>
除氧器、吸附器經(jīng)較長時間的工作,脫氧和吸附能力會逐漸下降,當(dāng)除氧器或除水器快要飽和失效時,就應(yīng)停止使用,并對失效的塔進(jìn)行再生,再生后的凈化柱又可繼續(xù)使用。

2、系統(tǒng)可提純的溶劑種類
本系統(tǒng)可以提純的溶劑有: 苯、正己烷、甲苯、四氫呋喃、戊烷、乙醚、 二氯甲烷、乙腈、氯甲烷、甲醇、吡啶、重水、二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、氯仿、氯苯等。
 
3、產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)
 原料溶劑要求
 O2含量 : ≤1000ppm
 H2O含量:≤1000ppm
 如果原料溶劑超過以上指標(biāo)則單次凈化溶劑的量將相應(yīng)減少。
 出口溶劑技術(shù)指標(biāo)
 O2含量 : ≤1ppm
 H2O含量: ≤2ppm
 
設(shè)備技術(shù)參數(shù)
額定處理量: 1500/
溶劑流速 : ≤1升/分鐘
溶劑種類 : 可以同時處理1~5中溶劑
再生性能 : 設(shè)備可反復(fù)再生長期使用
正確為:(額定處理量: 800/
溶劑流速 : ≤1升/分鐘
溶劑種類 : 可以同時處理1~10種溶劑)
 
 
         對比內(nèi)容
傳統(tǒng)蒸餾
新型溶劑純化系統(tǒng)
純化結(jié)果(正己烷中的水)
20PPM
1PPm
使用安全性
需要加熱沸騰,有危險
無須加熱,密閉安全
使用便利性
較復(fù)雜
簡便,易掌握
純化所需時間
幾小時
幾分鐘
綜合使用成本
較高
較低

部分客戶名單:
香港中文大學(xué)、香港大學(xué)、香港浸會大學(xué)、香港科技大學(xué)、香港城市大學(xué)、香港政府化驗所、浙江大學(xué)、上海通用、北京保諾、北京中科院、上海藥明康德、天津藥明康德、南開大學(xué)、大連理工大學(xué)、MIT 、Harvard 、Broad Institute of Harvard & MIT、Boston University 、NYU、Stanford University、Johns Hopkins Universi
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