對半導體制造裝置發(fā)熱部分的冷卻：
單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：
激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產(chǎn)業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：
等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻：
電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖條幅器的發(fā)熱部分、原子吸光光度計的光源等。
數(shù)控機床、加工中心冷卻介質(zhì)的降溫。
產(chǎn)品概述：
1、導熱液體溫度可調(diào)節(jié)。
2.采用阿斯帕拉、丹佛斯、美優(yōu)樂、谷輪等國際名牌牌壓縮機，性能穩(wěn)定，可連續(xù)工作。
3.人性化設(shè)計，靈活更方便。
4.微電腦溫度控制器，溫度數(shù)字顯示，調(diào)節(jié)單位0.1度，溫度范圍5度~35度可調(diào)。
5.采用熱氣旁通，節(jié)約能源，提高控制精度。
6.多種故障報警（超溫報警、傳感器報警、高壓報警、壓縮機過熱報警）。
7.開機延時保護。
8.所有部件均安全接地。
9.高性能循環(huán)泵，可保證每天連續(xù)24小時運行
型號 溫度范圍℃ 泵流量、揚程 電源 制冷能力 制冷劑 儲液容積 尺寸（mm）
20℃ 10℃
FL-0250 7~30 15 1bar 220V 2.5 1.8 R22 15L 550*600*900
FL-0700 7~30 35 1bar 50HZ 7 4.9 R407C 35L 700*700*1150
FL-1500 7~30 50 2.5bar 380V 15 10.5 75L 750*1100*1150
FL-2300 7~30 75 2.5bar 50Hz 20 14 115L 850*1250*1300
FL-3500 7~30 110 2.5bar 35 24.5 200L 950*1700*1700
FL-5000 7~30 110 2.5bar 50 35 300L 1250*2500*1900
FL-10000W 7~30 200 2.5bar 100 70 600L 1000*2000*1600
FL-16000W 7~30 200 2.5bar 160 105 1000L 1200*2200*1750
超低溫冷卻液循環(huán)裝置
開放式低溫恒溫水循環(huán)器
工業(yè)冷水機
小型冷卻機
制冷循環(huán)器
小型冷水機
經(jīng)濟型冷水機
冷卻裝置
冷卻水循環(huán)器
低溫制冷循環(huán)泵
低溫制冷循環(huán)器
低溫冷卻液循環(huán)泵
冷卻機
冷卻循環(huán)裝置
冷卻循環(huán)機
冷卻循環(huán)器
冷卻器 
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