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工藝過(guò)程成像分析系統(tǒng) 在線顆粒圖像分析儀在線成像儀晶體測(cè)量
詳細(xì)信息 工藝過(guò)程成像探頭系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)顆粒的形貌和尺寸大小做實(shí)時(shí)的準(zhǔn)確測(cè)量，進(jìn)而加深對(duì)過(guò)程的了解和實(shí)現(xiàn)過(guò)程的優(yōu)化控制及放大。除了固體結(jié)晶以外，對(duì)其他非固體的領(lǐng)域，例如氣泡、泡沫、乳狀液、液滴、聚合物、流場(chǎng)等刻畫也具有極其廣泛的應(yīng)用前景。它適用于生產(chǎn)中對(duì)過(guò)程的研究，產(chǎn)品開發(fā)及其改進(jìn)。特別適用于監(jiān)測(cè)，優(yōu)化和控制高顆粒濃度過(guò)程及非透明顆粒的生產(chǎn)過(guò)程。
技術(shù)指標(biāo)： 測(cè)量范圍：幾微米到幾毫米(與鏡頭放大倍數(shù)、相機(jī)等相關(guān)) 測(cè)量方式：在線測(cè)量晶體形態(tài)、平均尺寸、顆粒大小分布 測(cè)量濃度：可高達(dá)50%固體顆粒濃度(與顆粒形狀相關(guān)) 工作溫度：-10℃ ~ 120℃
性能特征： 特殊設(shè)計(jì)的探頭(相機(jī)/鏡頭/光源)可廣泛地適用于許多困難物系（尤其是非透明顆粒物系及高固體濃度）。探頭具有耐腐蝕性，能夠?qū)?/span>pH值1~12范圍內(nèi)的樣品進(jìn)行測(cè)量。 由于特殊的光源設(shè)計(jì),本系統(tǒng)可有效地防止顆粒沉積/粘結(jié)于探頭上。 根據(jù)不同物系及客戶要求,本系統(tǒng)可設(shè)計(jì)不同方案(包括氣體清理系統(tǒng))。 強(qiáng)大的圖像處理功能可實(shí)現(xiàn)顆粒多尺度分割,計(jì)算顆粒形狀參數(shù)(主元素分析和傅立葉變換)，聚類分析和定量產(chǎn)品/過(guò)程控制。 |
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