上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的無柵網(wǎng)離子源.

尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“

放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A

操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

伯東 KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性：

1.水冷 - 加速冷卻

2.可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極

3.寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率

4.多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便

5.高效的等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

技術(shù)參數(shù):

離子源型號	霍爾離子源 eH3000 eH3000LO eH3000MO
Cathode/Neutralizer	HC
電壓	50-250V 50-300V 50-250V
電流	20A 10A 15A
散射角度	>45
可充氣體	Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others
氣體流量	5-100sccm
高度	6.0“
直徑	9.7“
水冷	可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

應(yīng)用領(lǐng)域：

1. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

2. 輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 直接沉積 DD

應(yīng)用案例

1.伯東 KRI 霍爾離子源 EH400 HC用于離子刻蝕 IBE

2. KRI 霍爾離子源 EH 3000 HC用于輔助天文望遠鏡鏡片鍍膜

3. 伯東 KRI 霍爾離子源 EH 4200輔助鍍膜 IBAD用于 PC 預(yù)清潔

4. KRI 考夫曼霍爾離子源輔助光學鍍膜

5. 伯東 KRI 霍爾離子源 EH 5500輔助手機殼顏色鍍膜

6. KRI 霍爾離子源 EH 3000HC成功應(yīng)用于天文望遠鏡鏡片離子輔助鍍膜工藝IBAD

7. 伯東 KRI霍爾離子源在樣品清洗前處理中的應(yīng)用