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上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 考夫曼離子源 KDC 160. 屬于柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射. 適用于已知的所有離子源應(yīng)用.
離子束流: >650 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: 燈絲, 流量 (Typical flow): 2-30 sccm.
加熱燈絲產(chǎn)生電子, 增強(qiáng)設(shè)計輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
離子源采用模塊化設(shè)計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.
無需水冷, 降低安裝要求并排除腔體漏水的幾率, 雙陰極設(shè)計.
技術(shù)參數(shù)：
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離子源型號 |
離子源 KDC 160 |
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Discharge |
DC 熱離子 |
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離子束流 |
>650 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
16 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
2-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
25.2 cm |
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直徑 |
23.2 cm |
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中和器 |
燈絲 |
* 可選: 可調(diào)角度的支架
應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
2. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
3. 表面改性, 激活 SM
4. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
5. 離子蝕刻 IBE