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上海伯東代理美國(guó)考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵網(wǎng)離子源, 離子束可選聚焦, 平行, 散射.
離子束流: >600 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無(wú)需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合時(shí)間長(zhǎng)的工藝要求. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求.
離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.
非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕工藝.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術(shù)參數(shù):
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型號(hào) |
RFICP 140 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>600 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
14 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
24.6 cm |
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直徑 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
伯東KRI 考夫曼離子源 RFICP 140 應(yīng)用領(lǐng)域：
1.預(yù)清洗
2.表面改性
3.輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
4.濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
5.離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
6.離子蝕刻 IBE