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上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 220, 大面積高能量柵網(wǎng)離子源.
離子束流: >800 mA; 離子動(dòng)能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量(Typical flow): 10-40 sccm; 壓力: < 0.5m Torr
離子束可聚焦, 平行, 散射.
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng).
通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others.
技術(shù)參數(shù):
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離子源型號(hào) |
RFICP 220 |
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Discharge |
RFICP 射頻 |
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離子束流 |
>800 mA |
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離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
20 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
10-40 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長(zhǎng)度 |
30 cm |
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直徑 |
41 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長(zhǎng)度的增量
應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 預(yù)清洗
2. 表面改性
3. 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
6. 離子蝕刻 IBE